FEKETE, Matej, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA. Effect of pulse off time on temporal evolution of sputtered species densities in multi-pulse HiPIMS discharge. Online. In Jan Čech, Pavel Souček, Dana Skácelová, Jaroslav Hnilica. Potential Application of Plasma and Nanomaterials 2015. 1. vyd. Brno: Masaryk University, 2015, s. 22-27. ISBN 978-80-210-8053-9.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Effect of pulse off time on temporal evolution of sputtered species densities in multi-pulse HiPIMS discharge
Autoři FEKETE, Matej (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání 1. vyd. Brno, Potential Application of Plasma and Nanomaterials 2015, od s. 22-27, 6 s. 2015.
Nakladatel Masaryk University
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání elektronická verze "online"
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/15:00081303
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-210-8053-9
Klíčová slova anglicky HIPIMS; OES; titanium
Změnil Změnil: Mgr. Matej Fekete, Ph.D., učo 376265. Změněno: 10. 12. 2015 15:17.
Anotace
The aim of this paper is to experimentally study effect of preceding pulse on the temporal evolution of number densities of sputtered species during the subsequent pulse for different delay time between two successive high-power pulses in the pulse packet. Time evolutions of sputtered species during and after pulse in single-pulse mode are presented, too. Intensities of selected lines of buffer gas were acquired during every measurement.
Návaznosti
GAP205/12/0407, projekt VaVNázev: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 15:35