KLEIN, Peter, Jaroslav HNILICA, Zdeněk HUBIČKA, Martin ČADA a Petr VAŠINA. Observation of cathode voltage and discharge current oscillations and spoke behaviour in HiPIMS. Online. In Jan Čech, Pavel Souček, Dana Skácelová, Jaroslav Hnilica. Book of Contributed Papers. 1. vyd. Brno: Masaryk University Brno 2015, 2015, s. 37-42. ISBN 978-80-210-8053-9.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Observation of cathode voltage and discharge current oscillations and spoke behaviour in HiPIMS
Název česky Pozorovanie oscilácií na katódovom napätí a výbojovom prúde a správanie sa spokov v HiPIMS
Autoři KLEIN, Peter (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Zdeněk HUBIČKA (203 Česká republika), Martin ČADA (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání 1. vyd. Brno, Book of Contributed Papers, od s. 37-42, 6 s. 2015.
Nakladatel Masaryk University Brno 2015
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání elektronická verze "online"
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/15:00081304
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-210-8053-9
Klíčová slova česky HiPIMS; spoky; magnetrónové naprašovaní; nestability v plazmatu
Klíčová slova anglicky HiPIMS; spokes; magnetron sputtering; plasma instabilities
Změnil Změnil: Mgr. Peter Klein, Ph.D., učo 269740. Změněno: 10. 12. 2015 15:23.
Anotace
The oscillations were observed on cathode voltage and discharge current temporal evolution in HiPIMS pulse. The frequency of the oscillations depends at given pressure only on actual value of the discharge current. Rotation of the spokes over the cathode and the frequency of the oscillations shows different trends. The oscillations are observed at conditions where at least certain critical amount of spokes emerges.
Návaznosti
GAP205/12/0407, projekt VaVNázev: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 5. 5. 2024 14:06