J 2016

Efficient solar photocatalytic activity of TiO2 coated nano-porous silicon by atomic layer deposition

SAMPATH, Sridhar, Philipp MAYDANNIK, Tatiana IVANOVA, Marina SHESTAKOVA, Tomáš HOMOLA et. al.

Základní údaje

Originální název

Efficient solar photocatalytic activity of TiO2 coated nano-porous silicon by atomic layer deposition

Autoři

SAMPATH, Sridhar (356 Indie, garant), Philipp MAYDANNIK (643 Rusko), Tatiana IVANOVA (643 Rusko), Marina SHESTAKOVA (643 Rusko), Tomáš HOMOLA (703 Slovensko, domácí), Anton BRYUKVIN (643 Rusko), Mika SILLANPÄÄ (246 Finsko), Rameshbabu NAGUMOTHU (356 Indie) a Viswanathan ALAGAN (356 Indie)

Vydání

Superlattices and Microstructures, 2016, 0749-6036

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 2.123

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00090205

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000385319200017

Klíčová slova anglicky

Porous silicon;TiO2;Stain etching;ALD;Layer by layer solar absorption

Štítky

Změněno: 5. 4. 2017 11:31, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

In the present study, TiO2 coated nano-porous silicon (TiO2/PS) was prepared by atomic layer deposition (ALD) whereas porous silicon was prepared by stain etching method for efficient solar photocatalytic activity. TiO2/PS was characterized by FESEM, AFM, XRD, XPS and DRS UV–vis spectrophotometer. Absorbance spectrum revealed that TiO2/PS absorbs complete solar light with wave length range of 300 nm–800 nm and most importantly, it absorbs stronger visible light than UV light.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy