D 2016

Residual heat contribution to the memory effect of DBD microdischarges: numerical and experimental study

ČECH, Jan, Jozef RÁHEĽ, Zsolt SZALAY a Tomáš MORÁVEK

Základní údaje

Originální název

Residual heat contribution to the memory effect of DBD microdischarges: numerical and experimental study

Autoři

ČECH, Jan, Jozef RÁHEĽ, Zsolt SZALAY a Tomáš MORÁVEK

Vydání

1. vyd. Bratislava, Proceedings of the 23rd  Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases, Bratislava, Slovakia, 12‐16 July 2016. od s. 102-103, 2 s. 2016

Nakladatel

European Physical Society

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Slovensko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

paměťový nosič (CD, DVD, flash disk)

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

979-1-09-638902-5

Klíčová slova anglicky

DBD; coplanar DBD; residual heat build up

Štítky

Změněno: 16. 5. 2018 16:19, Ing. Nicole Zrilić

Anotace

V originále

The behaviour of individual microdischarges of dielectric barrier discharges is known to be influenced by so-called memory effect, i.e., the contribution of remnant active species and charges in the discharge area to the formation of a new microdischarge. In presented contribution the model of memory effect is supplemented by the discussion of residual heat build-up contribution with respect to the spatial stabilization of the train of successive microdischarges.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaV
Název: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy