GALMIZ, Oleksandr, Antonín BRABLEC a Vít KUDRLE. Deposition of thin zinc films by atmospheric pressure plasma jet in aqueous media. In Mirko Cernak, Tomas Hoder. Hakone XV: International Symposium of High Pressure low Temperature Plasma Chemistry. Brno: Masaryk University, 2016, s. 279-282. ISBN 978-80-210-8318-9.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Deposition of thin zinc films by atmospheric pressure plasma jet in aqueous media
Autoři GALMIZ, Oleksandr (804 Ukrajina, domácí), Antonín BRABLEC (203 Česká republika, garant, domácí) a Vít KUDRLE (203 Česká republika, domácí).
Vydání Brno, Hakone XV: International Symposium of High Pressure low Temperature Plasma Chemistry, od s. 279-282, 4 s. 2016.
Nakladatel Masaryk University
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání tištěná verze "print"
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00091359
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-210-8318-9
UT WoS 000393033200065
Klíčová slova anglicky atmospheric plasma jet; thin film deposition; zinc
Štítky AKR, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Andrea Mikešková, učo 137293. Změněno: 26. 4. 2017 22:37.
Anotace
Argon plasma jet was operated at atmospheric pressure in contact with aqueous solution of a zinc salt in order to deposit thin films on silicon substrates immersed in the liquid. The thickness of the films was determined by a profilometer while the chemical composition was analysed by XPS technique. The experiments revealed the importance of the submersion depth of the substrate which strongly affects the energy and particle influx.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 27. 4. 2024 02:49