ČECH, Jan, Pavel SŤAHEL, Miroslav ZEMÁNEK a Zdeněk BONAVENTURA. WIDE-PRESSURE-RANGE COPLANAR BARRIER DISCHARGE. In Mirko Černák, Tomáš Hoder. Hakone XV: International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistrywith joint COST TD1208 workshop Non-Equilibrium Plasmas with Liquids for Water and Surface Treatment. Book of Contributed Papers. Brno: Masarykova univerzita; Jednota českých matematiků a fyziků, 2016, s. 144-147. ISBN 978-80-210-8318-9.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název WIDE-PRESSURE-RANGE COPLANAR BARRIER DISCHARGE
Autoři ČECH, Jan (203 Česká republika, garant, domácí), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika, domácí), Miroslav ZEMÁNEK (203 Česká republika, domácí) a Zdeněk BONAVENTURA (203 Česká republika, domácí).
Vydání Brno, Hakone XV: International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistrywith joint COST TD1208 workshop Non-Equilibrium Plasmas with Liquids for Water and Surface Treatment. Book of Contributed Papers, od s. 144-147, 4 s. 2016.
Nakladatel Masarykova univerzita; Jednota českých matematiků a fyziků
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání tištěná verze "print"
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00091428
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-210-8318-9
UT WoS 000393033200031
Klíčová slova anglicky plasma source; dielectric barrier discharge; coplanar; atmospheric pressure; low pressure
Štítky AKR, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Andrea Mikešková, učo 137293. Změněno: 26. 4. 2017 22:42.
Anotace
Single plasma source for wide-pressure-range applications was invented based on dielectric barrier discharge in coplanar geometry. In this paper the basic properties of this plasma source as well as the plasma parameters are presented for the working gas continuous pressure range from 10^1 Pa to 10^5 Pa. The current and voltage waveforms, discharge geometry and emission intensity are presented together with intended application.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 22:16