D 2016

WIDE-PRESSURE-RANGE COPLANAR BARRIER DISCHARGE

ČECH, Jan, Pavel SŤAHEL, Miroslav ZEMÁNEK a Zdeněk BONAVENTURA

Základní údaje

Originální název

WIDE-PRESSURE-RANGE COPLANAR BARRIER DISCHARGE

Autoři

ČECH, Jan (203 Česká republika, garant, domácí), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika, domácí), Miroslav ZEMÁNEK (203 Česká republika, domácí) a Zdeněk BONAVENTURA (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Brno, Hakone XV: International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistrywith joint COST TD1208 workshop Non-Equilibrium Plasmas with Liquids for Water and Surface Treatment. Book of Contributed Papers, od s. 144-147, 4 s. 2016

Nakladatel

Masarykova univerzita; Jednota českých matematiků a fyziků

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00091428

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-8318-9

UT WoS

000393033200031

Klíčová slova anglicky

plasma source; dielectric barrier discharge; coplanar; atmospheric pressure; low pressure

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 26. 4. 2017 22:42, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

Single plasma source for wide-pressure-range applications was invented based on dielectric barrier discharge in coplanar geometry. In this paper the basic properties of this plasma source as well as the plasma parameters are presented for the working gas continuous pressure range from 10^1 Pa to 10^5 Pa. The current and voltage waveforms, discharge geometry and emission intensity are presented together with intended application.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy