D 2016

PRE-TOWNSEND PHASE OF COPLANAR BARRIER DISCHARGE

MORÁVEK, Tomáš, Zdeněk NAVRÁTIL, Jan ČECH a Jozef RÁHEĽ

Základní údaje

Originální název

PRE-TOWNSEND PHASE OF COPLANAR BARRIER DISCHARGE

Autoři

MORÁVEK, Tomáš (703 Slovensko, garant, domácí), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Česká republika, domácí), Jan ČECH (203 Česká republika, domácí) a Jozef RÁHEĽ (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Brno, Hakone XV: International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistrywith joint COST TD1208 workshop Non-Equilibrium Plasmas with Liquids for Water and Surface Treatment. Book of Contributed Papers, od s. 63-65, 3 s. 2016

Nakladatel

Masarykova univerzita; Jednota českých matematiků a fyziků

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00088285

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-8318-9

UT WoS

000393033200010

Klíčová slova anglicky

DBD; helium; argon; pre-Townsend phase

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 26. 4. 2017 22:42, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

Coplanar barrier discharge was used to study previously reported pre-Townsend phase luminescence on alumina with high permittivity coating in helium diffuse operation mode. The aim of this study was to obtain the spectrum of this discharge phase. Pre-Townsend phase was observed also in argon, proving that this phenomenon is presented also in the filamentary mode of discharge operation.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaV
Název: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy