J 2016

Deposition of Functional Plasma Polymers Influenced by Reactor Geometry in Capacitively Coupled Discharges

HEGEMANN, Dirk, Miroslav MICHLÍČEK, Noemi E. BLANCHARD, Urs SCHUTZ, Dominik LOHMANN et. al.

Základní údaje

Originální název

Deposition of Functional Plasma Polymers Influenced by Reactor Geometry in Capacitively Coupled Discharges

Autoři

HEGEMANN, Dirk (756 Švýcarsko), Miroslav MICHLÍČEK (203 Česká republika, domácí), Noemi E. BLANCHARD (756 Švýcarsko), Urs SCHUTZ (756 Švýcarsko), Dominik LOHMANN (276 Německo), Marianne VANDENBOSSCHE (756 Švýcarsko), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, garant, domácí) a Martin DRABIK (756 Švýcarsko)

Vydání

Plasma processes and polymers, Weinheim, Wiley-VCH, 2016, 1612-8850

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 2.846

Kód RIV

RIV/00216224:14740/16:00093843

Organizační jednotka

Středoevropský technologický institut

UT WoS

000370020100009

Klíčová slova anglicky

plasma polymer; functional groups; ion bombardment; cross-linking; aging

Štítky

Změněno: 19. 9. 2017 04:51, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

The deposition of functional plasma polymers such as a-C:H:O films is mainly influenced by fragmentation of the parent molecules in the gas phase as well as by the energetic conditions during film growth at the surface. The influence of gas phase and surface processes on the a-C:H:O film properties was thus investigated in order to optimize cross-linking and functional group density. The control of both conditions enables permanent functional plasma polymer films deposited within different reactor geometries (capacitively coupled symmetric vs. asymmetric at driven electrode and at grounded electrode). Comparison and up-scaling of such plasma polymerization processes are facilitated by knowing the internal energy input into the plasma and into the growing film surface.

Návaznosti

ED1.1.00/02.0068, projekt VaV
Název: CEITEC - central european institute of technology