2016
Deposition of Functional Plasma Polymers Influenced by Reactor Geometry in Capacitively Coupled Discharges
HEGEMANN, Dirk, Miroslav MICHLÍČEK, Noemi E. BLANCHARD, Urs SCHUTZ, Dominik LOHMANN et. al.Základní údaje
Originální název
Deposition of Functional Plasma Polymers Influenced by Reactor Geometry in Capacitively Coupled Discharges
Autoři
HEGEMANN, Dirk (756 Švýcarsko), Miroslav MICHLÍČEK (203 Česká republika, domácí), Noemi E. BLANCHARD (756 Švýcarsko), Urs SCHUTZ (756 Švýcarsko), Dominik LOHMANN (276 Německo), Marianne VANDENBOSSCHE (756 Švýcarsko), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, garant, domácí) a Martin DRABIK (756 Švýcarsko)
Vydání
Plasma processes and polymers, Weinheim, Wiley-VCH, 2016, 1612-8850
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Německo
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 2.846
Kód RIV
RIV/00216224:14740/16:00093843
Organizační jednotka
Středoevropský technologický institut
UT WoS
000370020100009
Klíčová slova anglicky
plasma polymer; functional groups; ion bombardment; cross-linking; aging
Štítky
Změněno: 19. 9. 2017 04:51, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
Anotace
V originále
The deposition of functional plasma polymers such as a-C:H:O films is mainly influenced by fragmentation of the parent molecules in the gas phase as well as by the energetic conditions during film growth at the surface. The influence of gas phase and surface processes on the a-C:H:O film properties was thus investigated in order to optimize cross-linking and functional group density. The control of both conditions enables permanent functional plasma polymer films deposited within different reactor geometries (capacitively coupled symmetric vs. asymmetric at driven electrode and at grounded electrode). Comparison and up-scaling of such plasma polymerization processes are facilitated by knowing the internal energy input into the plasma and into the growing film surface.
Návaznosti
ED1.1.00/02.0068, projekt VaV |
|