P 2016

Způsob generování nízkoteplotního plazmatu, způsob plazmové úpravy tekutin, práškových materiálů i pevných látek tímto nízkoteplotním plazmatem a zařízení k provádění těchto způsobů

SŤAHEL, Pavel, Zdeněk NAVRÁTIL, Mirko ČERNÁK a Miroslav ZEMÁNEK

Základní údaje

Originální název

Způsob generování nízkoteplotního plazmatu, způsob plazmové úpravy tekutin, práškových materiálů i pevných látek tímto nízkoteplotním plazmatem a zařízení k provádění těchto způsobů

Název česky

Způsob generování nízkoteplotního plazmatu, způsob plazmové úpravy tekutin, práškových materiálů i pevných látek tímto nízkoteplotním plazmatem a zařízení k provádění těchto způsobů

Název anglicky

Method of generating low-temperature plasma, plasma treatment process of fluids, powder materials and solid substances by making use of such low-temperature plasma and apparatus for making the same

Autoři

SŤAHEL, Pavel (203 Česká republika, garant, domácí), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Česká republika, domácí), Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí) a Miroslav ZEMÁNEK (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Číslo: 306119, Vydavatel: Úřad průmyslového vlastnictví, Místo vydání: Praha, Název vlastníka: Masarykova univerzita, Brno, CZ, 2016

Další údaje

Jazyk

čeština

Typ výsledku

Patent

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00093953

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

Plasma gliding arc plyn pevná látka prášky tekutiny

Klíčová slova anglicky

Plasma gliding arc gas solid powders liquids

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 23. 3. 2017 12:42, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

Plazmové úpravy plynů ve velkých objemech, úpravy práškových materiálů a kapalin za atmosférického tlaku představují značný problém z důvodu specifických vlastností plazmových zdrojů. Pro dekontaminaci plynů se používá klouzavý rotační výboj typu glidingarc, generovaný vysokonapěťovým zdrojem připojeným k vnější elektrodě s rotačně symetrickou výbojovou komorou, a k vnitřní kuželové elektrodě uspořádanou izolovaně a otočně uvnitř výbojové komory. Výboj se vyfukuje z výbojové komory proudem pracovního transportního plynu. Nevýhoda tohoto řešení spočívá ve značných nárocích na objem plynu a na výkon zařízení, a v tlakové diferenci zhoršující proces úpravy a omezující kapacitu a účinnost zařízení. Předložený vynález je založen na generování klouzavého rotačního výboje typu glidingarc bez vyfukování plynem, pouze otáčením vnitřní elektrody, která má specifický tvar výbojového šneku nebo výbojové vrtule, bez jakékoli záporné tlakové diference. Způsob a zařízení podle vynálezu jsou vhodné pro plazmovou úpravu plynů, kapalin, práškových materiálů i pevných materiálů.

Anglicky

Plasma treatment of gases in large volumes, treatment of powder materials and liquid under atmospheric pressure represent a significant issue because of specific properties of plasma sources. For decontamination of gases, there is used a creeping rotary discharge of the gliding arc type generated by a high-voltage source connected to a ground electrode with rotation symmetrical discharge chamber, and to an inner conical electrode arranged separately and rotatably inside the discharge chamber. The discharge is blown out of the discharge chamber by a stream of working transport gas. Disadvantage of the above consists in significant demands to a gas volume and a device output, as well as in a pressure difference deteriorating treatment process and limiting capacity and device efficiency. The present invention is based on generating a creeping rotary discharge of the gliding arc type without gas blowing out, but only by rotation of the inner electrode having a specific form of a discharge worm or a discharge propeller, without any negative pressure difference. The method of and apparatus according to the present invention are suitable for plasma treatment of gases, liquids, powder materials as well as solid materials.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy