J 2017

Probe technique for measurement of plasma potential waveform

DVOŘÁK, Pavel, Maroš TKÁČIK a Jiří BÉM

Základní údaje

Originální název

Probe technique for measurement of plasma potential waveform

Název česky

Metoda sondového měření průběhu potenciálu plazmatu

Autoři

DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant, domácí), Maroš TKÁČIK (703 Slovensko, domácí) a Jiří BÉM (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Plasma Sources Science and Technology, Bristol, IOP Publishing, 2017, 0963-0252

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 3.939

Kód RIV

RIV/00216224:14310/17:00096609

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

UT WoS

000399736700001

Klíčová slova česky

potenciál plazmatu; sonda

Klíčová slova anglicky

plasma potential; probe

Štítky

Změněno: 10. 4. 2018 22:58, Ing. Nicole Zrilić

Anotace

ORIG CZ

V originále

A method for measurement of plasma potential waveforms is presented that is based on measurement with a high-impedance probe and on an electric model of the sheath around the probe. The method was verified and compared with methods that were previously used for measurement of the temporal development of plasma potential during a RF period of capacitive discharges. Sensitivity of the method to the values of required input parameters (mean plasma potential value, electron concentration and temperature) was analyzed and it was found that with a lower precision the method can be used even without the knowledge of these input parameters. Finally, plasma potential waveforms were measured in a low-pressure capacitively coupled discharge. In agreement with theoretical models, generation of higher harmonic frequencies of plasma potential and their sensitivity to electron concentration were observed.

Česky

Metoda měření potenciálu plazmatu pomocí vysokoimpedanční nekompenzované sondy. Vliv stěnové vrstvy okolo sondy je počítán modelem se skokovou změnou hustoty náboje.

Návaznosti

LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy