DVOŘÁK, Pavel, Marek TALÁBA, Adam OBRUSNÍK, Kratzer JAN a Dědina JIŘÍ. Concentration of atomic hydrogen in a dielectric barrier discharge measured by two-photon absorption fluorescence. Plasma Sources Science and Technology. Bristol: IOP PUBLISHING LTD, 2017, roč. 26, č. 8, s. nestránkováno, 13 s. ISSN 0963-0252. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/aa76f7.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Concentration of atomic hydrogen in a dielectric barrier discharge measured by two-photon absorption fluorescence
Název česky Koncentrace atomárního vodíku v dielektrickém bariérovém výboji měřená metodou TALIF
Autoři DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant, domácí), Marek TALÁBA (703 Slovensko), Adam OBRUSNÍK (203 Česká republika), Kratzer JAN (203 Česká republika) a Dědina JIŘÍ (203 Česká republika).
Vydání Plasma Sources Science and Technology, Bristol, IOP PUBLISHING LTD, 2017, 0963-0252.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 3.939
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00094852
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/aa76f7
UT WoS 000405581100001
Klíčová slova česky Laserem indukovaná fluorescence; TALIF; atomární vodík; H; dielektrický bariérový výboj
Klíčová slova anglicky Laser induced fluorescence; TALIF; atomic hydrogen; H; dielectric barrier discharges
Štítky NZ, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 30. 3. 2018 17:54.
Anotace
Two-photon absorption laser-induced fluorescence (TALIF) was utilized for measuring the concentration of atomic hydrogen in a volume dielectric barrier discharge (DBD) ignited in mixtures of Ar, H2 and O2 at the atmospheric pressure. The method was calibrated by TALIF of krypton diluted in argon at the atmospheric pressure, proving that three-body collisions had negligible effect on quenching of excited krypton atoms. The diagnostic study was complemented with a three-dimensional numerical model of the gas flow and a zero-dimensional model of chemistry in order to better understand the reaction kinetics and identify the key pathways leading to production and destruction of atomic hydrogen. It was determined that the density of atomic hydrogen in Ar - H2 mixtures was in the order of 10^{21} m^{-3} and decreased when oxygen was added into the gas mixture. Spatially resolved measurements and simulations revealed a sharply bordered region with low atomic hydrogen concentration when oxygen was added to the gas mixture. At substoichiometric oxygen/hydrogen ratios, this H-poor region is constricted to an area close to the gas inlet and it is shown that the size of this region is not only influenced by the chemistry but also by the gas flow patterns. Experimentally, it was observed that a decrease of H2 concentration in the feeding Ar - H2 mixture lead to an increase of H production in the DBD.
Anotace česky
TALIF měření a výpočet koncentrace atomárního vodíku v dielektrickém bariérovém výboji používaném jako atomizátor pro účely analytické chemie.
Návaznosti
CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MUNázev: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
GA13-24635S, projekt VaVNázev: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
GA17-04329S, projekt VaVNázev: Atomizátory hydridů pro atomovou absorpční a atomovou fluorescenční spektrometrii - nové horizonty
Investor: Grantová agentura ČR, Atomizátory hydridů pro pro atomovou absorpční a atomovou fluorescenční spektrometrii - nové horizonty
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 10:45