a 2016

Silicon Oxide Films: Plasma Assisted Formation of Nanostructures from Glass to Organic Polymers

FOEST, Rudiger, Jan SCHÄFER, Jaroslav HNILICA a Jens HARHAUSEN

Základní údaje

Originální název

Silicon Oxide Films: Plasma Assisted Formation of Nanostructures from Glass to Organic Polymers

Autoři

FOEST, Rudiger (276 Německo, garant), Jan SCHÄFER (203 Česká republika), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Jens HARHAUSEN (276 Německo)

Vydání

PRiME 2016 / 230th ECS Meeting, 2016

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00097404

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

silicon oxide; plasma

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 28. 8. 2017 15:00, doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.

Anotace

V originále

Thin silicon oxide films produced by means of plasma enhanced deposition techniques cover a large area of applications with a long industrial tradition. It is long-recognized that the chemical composition, physical properties and particularly the functionalisation of SiOx films can be adjusted in a wide range by choosing the appropriate plasma conditions for the deposition process. For PECVD, the proper choice of the silicon-organic molecule as thin film precursor is also substantial. Next to the production of amorphous SiO2films by PVD for optical coatings, also SiOx films by PECVD are known that mimic the functionality of a glass surface. Prominent examples include films for corrosion protection, as passivation and insulation layer, and for permeation barrier coatings. Here, dense, pin-hole free films are required that are usually characterized by a stoichiometry close to x=2, with low carbon content (below 5%). With increasing polymeric character and depending on the degree of cross-linking the films become attractive for applications such as adhesion promoting interfaces in multilayer systems, for the integration of catalysts into surfaces or as selective absorber in sensor applications. For these purposes, films with micro- and nano-porous morphologies are preferred.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
7AMB12DE005, projekt VaV
Název: Samoorganizace a procesy strukturalizace v plazmochemické depozici tenkých vrstev
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Samoorganizace a procesy strukturalizace v plazmochemické depozici tenkých vrstev