RÁHEĽ, Jozef, Miroslav ZEMÁNEK, Martina ILČÍKOVÁ a Radek ZISCHKA. Powder transport using sequentially pulsed coplanar barrier discharge. In Workshop Proceedings: Processing and Properties of Advanced Ceramics and Glass. 2017, s. 41-47. ISBN 978-80-8075-786-1.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Powder transport using sequentially pulsed coplanar barrier discharge
Autoři RÁHEĽ, Jozef, Miroslav ZEMÁNEK, Martina ILČÍKOVÁ a Radek ZISCHKA.
Vydání Workshop Proceedings: Processing and Properties of Advanced Ceramics and Glass, od s. 41-47, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Slovensko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání paměťový nosič (CD, DVD, flash disk)
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-8075-786-1
Klíčová slova anglicky powders, transport, coplanar DBD
Změnil Změnil: doc. RNDr. Jozef Ráheľ, PhD., učo 169224. Změněno: 14. 11. 2017 15:12.
Anotace
Practical implementation of atmospheric pressure non-thermal plasma activation of fine powder materials requires proper management of its transport through the active plasma zone. We present a new method for the powder transport, which takes advantage from the natural tendency of powders to concentrate outside the microfilament plasma channel. Two new HV electrodes designs were devised and consequently tested. To execute sequential powering, a dedicated rotating switch has been constructed. The paper is focused on technical aspects of the method and outlines the roadmap to its future development.
Návaznosti
GA17-05620S, projekt VaVNázev: Fyzikální aktivace povrchu keramických částic jako nástroj pro zlepšení vlastností jemnozrnné pokročilé keramiky (Akronym: KeramAktiv)
Investor: Grantová agentura ČR, Fyzikální aktivace povrchu keramických částic jako nástroj pro zlepšení vlastností jemnozrnné pokročilé keramiky
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TE02000011, projekt VaVNázev: Centrum výzkumu povrchových úprav (Akronym: povrchovky)
Investor: Technologická agentura ČR, Research center of surface treatment
VytisknoutZobrazeno: 2. 5. 2024 09:54