ŠLAPANSKÁ, Marta, Ante HECIMOVIC, Wolfgang BREILMANN, Jaroslav HNILICA, Petr VAŠINA a Achim VON KEUDELL. Transition from spokes into a homogeneous plasma in HiPIMS discharge. In Sixteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition 2017. 2017. ISBN 978-80-261-0754-5.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Transition from spokes into a homogeneous plasma in HiPIMS discharge
Autoři ŠLAPANSKÁ, Marta (203 Česká republika, domácí), Ante HECIMOVIC (191 Chorvatsko), Wolfgang BREILMANN (276 Německo), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, garant, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí) a Achim VON KEUDELL (276 Německo).
Vydání Sixteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition 2017, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00095243
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-261-0754-5
Klíčová slova anglicky HiPIMS; spokes; chromium; flat probe; optical emission spectroscopy; mass spectrometry
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnila: Mgr. Marta Šlapanská, Ph.D., učo 408884. Změněno: 5. 1. 2018 14:11.
Anotace
The transition from self-organized plasma into spokes to a homogeneous plasma was studied. In the experiment, the 51-mm-diameter chromium target was used. The transition was investigated by simple biased flat probe, mass spectrometry (MS) and optical emission spectroscopy (OES).
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 25. 8. 2024 11:05