FEKETE, Matej, Katarína BERNÁTOVÁ, Peter KLEIN, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA. Impact of Sputtered Species Ionization on Hysteresis Curve Shape – Model and Experiment. In Sixteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition. 2017. ISBN 978-80-261-0754-5.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Impact of Sputtered Species Ionization on Hysteresis Curve Shape – Model and Experiment
Autoři FEKETE, Matej (703 Slovensko, domácí), Katarína BERNÁTOVÁ (703 Slovensko, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání Sixteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00095254
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-261-0754-5
Klíčová slova anglicky R-HiPIMS; OES; titanium
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: Mgr. Matej Fekete, Ph.D., učo 376265. Změněno: 11. 12. 2017 10:41.
Anotace
During the last decade the HiPIMS has shown great promise in the field of reactive thin film deposition. In the reactive HiPIMS (R-HiPIMS), the discharge power is delimited within short energetic pulses which, in addition to an enhanced ionization of the sputtered species, also leads to an enhanced dissociation of the reactive gas molecules resulting in an increasing gas reactivity with the surface, which is ultimately beneficial for the thin film formation.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 16:08