FEKETE, Matej, Katarína BERNÁTOVÁ, Peter KLEIN, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA. Titanium Atom and Ion Number Density Evolution in Reactive HiPIMS. In Potential Application of Plasma and Nanomaterials 2017. 2017.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Titanium Atom and Ion Number Density Evolution in Reactive HiPIMS
Autoři FEKETE, Matej (703 Slovensko, domácí), Katarína BERNÁTOVÁ (703 Slovensko, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání Potential Application of Plasma and Nanomaterials 2017, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00095257
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky R-HiPIMS; OES; titanium
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: Mgr. Matej Fekete, Ph.D., učo 376265. Změněno: 15. 5. 2023 09:12.
Anotace
The shape of the hysteresis curve in R-HiPIMS was noticeable different from that one of dc magnetron sputtering operation at the same mean power – the transition from the metallic to compound mode and vice versa were shifted to lower reactive gas supply and the width of the hysteresis curve was reduced. These changes were more pronounced for R-HiPIMS processes with higher ionized fraction of the sputtered species. The modified Berg model assuming that a part of the sputtered and ionized species are back-attracted to the target was developed.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 22. 7. 2024 23:33