WANG, Chennan, Ondřej CAHA, Filip MÜNZ, Petr KOSTELNÍK, Tomáš NOVÁK a Josef HUMLÍČEK. Mid-infrared ellipsometry, Raman and X-ray diffraction studies of AlxGa1-xN/AlN/Si structures. Applied Surface Science. Amsterdam: Elsevier Science, 2017, roč. 421, November, s. 859-865. ISSN 0169-4332. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.02.056.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Mid-infrared ellipsometry, Raman and X-ray diffraction studies of AlxGa1-xN/AlN/Si structures
Název česky Studie vrstev AlxGa1-xN/AlN/Si pomocí infračervené elipsometrie, Ramanova rozptylu a rtg difrakce
Autoři WANG, Chennan (156 Čína, garant, domácí), Ondřej CAHA (203 Česká republika, domácí), Filip MÜNZ (203 Česká republika, domácí), Petr KOSTELNÍK (203 Česká republika), Tomáš NOVÁK (203 Česká republika) a Josef HUMLÍČEK (203 Česká republika, domácí).
Vydání Applied Surface Science, Amsterdam, Elsevier Science, 2017, 0169-4332.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Nizozemské království
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 4.439
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00094403
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.02.056
UT WoS 000408756700093
Klíčová slova anglicky Gallium nitride; Alloy; Semiconductor; Thin film; Wafer; MOCVD; Silicon; Infrared spectroscopy; Phonon; Ellipsometry; XRD; Raman
Štítky ellipsometry, Gallium Nitride, infrared spectroscopy, NZ, Raman, rivok, XRD
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 9. 4. 2018 11:10.
Anotace
We report an investigation of the optical and structural properties of wurtzite phase AlxGa1-xN/AlN structure grown on Si(111) within the compositional range of 0 <= x <= 1. The study focuses on providing essential physical quantities for the fabrication process control, namely the composition dependence of phonon mode energy and refractive index. Three complementary techniques, infrared ellipsometry, Raman spectroscopy and X-ray diffraction, have been used to minimize uncertainties in our analysis. Based on the high quality and nearly strain-free AlxGa1-xN/AlN double layer samples, we determined the calibration curve for the A(1)(LO) phonon mode. We have also constructed the ellipsometry model which uses a-priori knowledge of experimentally measured A(1)(TO) phonon mode frequencies. From the best model fit to the collected ellipsometry spectra of the entire sample series, we obtained the anisotropic refractive indices of the AlxGa1-xN alloys with a very satisfactory accuracy. (C) 2017 Elsevier B.V. All rights reserved.
Návaznosti
TH01011284, projekt VaVNázev: Nové polovodičové materiály a součástky s velkou šířkou zakázaného pásu
Investor: Technologická agentura ČR, Nové polovodičové materiály a součástky s velkou šířkou zakázaného pásu
VytisknoutZobrazeno: 15. 5. 2024 20:21