Boron-based thin layers deposited by RF plasma jet with slit nozzle

PIJÁKOVÁ, Barbora, Milan ALBERTI a Miloš KLÍMA. Boron-based thin layers deposited by RF plasma jet with slit nozzle. In Cernak, M; Hoder, T. ALBERTI, Milan a Miloš KLÍMA. HAKONE XV: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON HIGH PRESSURE LOW TEMPERATURE PLASMA CHEMISTRY: WITH JOINT COST TD1208 WORKSHOP: NON-EQUILIBRIUM PLASMAS WITH LIQUIDS FOR WATER AND SURFACE TREATMENT. Brno: Masarykova univerzita, 2016, s. 326-329. ISBN 978-80-210-8318-9.

Základní údaje

Originální název

Boron-based thin layers deposited by RF plasma jet with slit nozzle

Název česky

Tenké vrstvy na báze bóru deponované RF plazmovou štrbinovou tryskou

Autoři

PIJÁKOVÁ, Barbora (703 Slovensko, garant, domácí), Milan ALBERTI (203 Česká republika, domácí) a Miloš KLÍMA (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Brno, HAKONE XV: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON HIGH PRESSURE LOW TEMPERATURE PLASMA CHEMISTRY: WITH JOINT COST TD1208 WORKSHOP: NON-EQUILIBRIUM PLASMAS WITH LIQUIDS FOR WATER AND SURFACE TREATMENT, od s. 326-329, 4 s. 2016

Nakladatel

Masarykova univerzita

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00094407

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-8318-9

UT WoS

000393033200078

Klíčová slova česky

koeficient tření; RF plazmová tryska; trimethylester kyseliny borité

Klíčová slova anglicky

friction coefficient; RF plasma jet; trimethyl borate

Štítky

NZ, rivok

Příznaky

Recenzováno

---

Anotace

V originále

Preparation of thin layers with low friction coefficient using RF atmospheric pressure plasma slit jet system with addition of organic precursor aerosol.

Česky

Příprava tenkých vrstev s nízkým koeficientem tření pomocí systému RF atmosferických plazmových štěrbinových trysek s přídavkem aerosolu organického prekurzoru.

---

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV	Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaV	Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus) Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TE02000011, projekt VaV	Název: Centrum výzkumu povrchových úprav (Akronym: povrchovky) Investor: Technologická agentura ČR, Research center of surface treatment