2018
Atmospheric dry hydrogen plasma reduction of inkjet-printed flexible graphene oxide electrodes
HOMOLA, Tomáš, Jan POSPIŠIL, Richard KRUMPOLEC, Pavel SOUČEK, Petr DZIK et. al.Základní údaje
Originální název
Atmospheric dry hydrogen plasma reduction of inkjet-printed flexible graphene oxide electrodes
Autoři
HOMOLA, Tomáš (703 Slovensko, garant, domácí), Jan POSPIŠIL (203 Česká republika), Richard KRUMPOLEC (703 Slovensko, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí), Petr DZIK (203 Česká republika), Martin WEITER (203 Česká republika) a Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí)
Vydání
ChemSusChem, Germany, Wiley-VCH, 2018, 1864-5631
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
21001 Nano-materials
Stát vydavatele
Německo
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 7.804
Kód RIV
RIV/00216224:14310/18:00102277
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000427005900016
Klíčová slova anglicky
plasma treatment;hydrogen plasma;reduced graphene oxide (rGO);low-temperature processing;inkjet printing
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 23. 4. 2024 10:59, Mgr. Michal Petr
Anotace
V originále
This study concerns a low-temperature method for dry hydrogen plasma reduction of inkjet-printed flexible graphene oxide (GO) electrodes, an approach compatible with processes envisaged for the manufacture of flexible electronics. The processing of GO to reduced graphene oxide (rGO) was performed in 1–64 seconds, and sp2/sp2+sp3 carbon concentration increased from approximately 20% to 90%. Since the plasma reduction was associated with an etching effect, the optimal reduction time occurred between 8 and 16 seconds. The surface showed good mechanical stability when deposited on polyethylene terephthalate flexible foils and significantly lower sheet resistance after plasma reduction. This method for dry plasma reduction could be important for large-area hydrogenation and reduction of GO flexible surfaces, with present and potential applications in a wide variety of emerging technologies.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaV |
| ||
LO1411, projekt VaV |
|