P 2017

METHOD OF PLASMA TREATMENT OF AN INTERNAL AND/OR EXTERNAL SURFACE OF A HOLLOW ELECTRICALLY NON-CONDUCTIVE BODY AND A DEVICE FOR CARRYING OUT THIS METHOD

PAVLIŇÁK, David, Dušan KOVÁČIK a Mirko ČERNÁK

Základní údaje

Originální název

METHOD OF PLASMA TREATMENT OF AN INTERNAL AND/OR EXTERNAL SURFACE OF A HOLLOW ELECTRICALLY NON-CONDUCTIVE BODY AND A DEVICE FOR CARRYING OUT THIS METHOD

Autoři

PAVLIŇÁK, David (203 Česká republika, garant, domácí), Dušan KOVÁČIK (703 Slovensko, domácí) a Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí)

Vydání

Číslo: EP 3085208, Název vlastníka: Masarykova univerzita, 2017

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Patent

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/17:00099990

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

plasma discharge;liquid;hollow tubes

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 6. 4. 2018 14:45, Ing. Nicole Zrilić

Anotace

V originále

A method of plasma treatment of an internal and/or external surface of a hollow electrically non-conductive body. The internal surface of the body and/or its external surface acts a layer of electrical plasma of a surface dielectric barrier discharge generated in a volume of gas by alternating or pulse voltage with an amplitude higher than 100 V from a pair of liquid electrodes formed by an internal electrically conductive liquid situated inside the body and by an external electrically conductive liquid situated outside the body. The electrical plasma is generated above the surface of the electrically conductive liquid, where in the volume of the gas forms a layer of electrical plasma forming a ring copying the shape of the surface of the body wherein the electrical resistance between the liquid electrodes is greater than 10 kOhm. The invention also is a device for carrying out the aforementioned method.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy