J 2017

Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to magnesium fluoride

FRANTA, Daniel; David NEČAS; Angelo GIGLIA; Pavel FRANTA; Ivan OHLÍDAL et al.

Základní údaje

Originální název

Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to magnesium fluoride

Autoři

FRANTA, Daniel; David NEČAS; Angelo GIGLIA; Pavel FRANTA a Ivan OHLÍDAL

Vydání

Applied Surface Science, Amsterdam, Elsevier Science, 2017, 0169-4332

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 4.439

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/17:00094431

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

EID Scopus

Klíčová slova anglicky

Optical constants;Ellipsometry;Spectrophotometry;Sum rule

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 12. 4. 2018 17:44, Ing. Nicole Zrilić

Anotace

V originále

Optical characterization of magnesium fluoride thin films is performed in a wide spectral range from far infrared to extreme ultraviolet (0.01-45 eV) utilizing the universal dispersion model. Two film defects, i.e. random roughness of the upper boundaries and defect transition layer at lower boundary are taken into account. An extension of universal dispersion model consisting in expressing the excitonic contributions as linear combinations of Gaussian and truncated Lorentzian terms is introduced. The spectral dependencies of the optical constants are presented in a graphical form and by the complete set of dispersion parameters that allows generating tabulated optical constants with required range and step using a simple utility in the newAD2 software package.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LQ1601, projekt VaV
Název: CEITEC 2020 (Akronym: CEITEC2020)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEITEC 2020
TA02010784, projekt VaV
Název: Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu
Investor: Technologická agentura ČR, Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu

Přiložené soubory

1-s2.0-S016943321632030X-main.pdf
Požádat o autorskou verzi souboru