2017
Determination of the impact of Bi content on the valence band energy of GaAsBi using x-ray photoelectron spectroscopy
COLLAR, K., J. LI, W. JIAO, Y. GUAN, M. LOSURDO et. al.Základní údaje
Originální název
Determination of the impact of Bi content on the valence band energy of GaAsBi using x-ray photoelectron spectroscopy
Autoři
COLLAR, K. (840 Spojené státy), J. LI (840 Spojené státy), W. JIAO (840 Spojené státy), Y. GUAN (840 Spojené státy), M. LOSURDO (380 Itálie), Josef HUMLÍČEK (203 Česká republika, garant, domácí) a A.S. BROWN (840 Spojené státy)
Vydání
AIP Advances, MELVILLE, AMER INST PHYSICS, 2017, 2158-3226
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
21002 Nano-processes ;
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 1.653
Kód RIV
RIV/00216224:14310/17:00100440
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000406760200016
Klíčová slova anglicky
MOLECULAR-BEAM EPITAXY; TEMPERATURE-DEPENDENCE; GAAS1-XBIX; INTERFACE; GROWTH; GAP
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 31. 3. 2018 13:40, Ing. Nicole Zrilić
Anotace
V originále
We investigate the change of the valence band energy of GaAs1-xBix as a function of dilute bismuth (Bi) concentration, x, using x-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The change in the valence band energy per addition of 1 % Bi is determined for strained and unstrained thin films using a linear approximation applicable to the dilute regime. Spectroscopic ellipsometry (SE) was used as a complementary technique to determine the change in GaAsBi bandgap resulting from Bi addition. Analysis of SE and XPS data together supports the conclusion that similar to 75% of the reduction in the bandgap is in the valence band for a compressively strained, dilute GaAsBi thin film at room temperature.
Návaznosti
692034, interní kód MU |
|