D 2018

2D high-resolution measurement of E/N temporal evolution of coplanar helium DBD

ČECH, Jan, Tomáš MORÁVEK, Zdeněk NAVRÁTIL, Michal ŠTIPL, Jozef RÁHEĽ et. al.

Základní údaje

Originální název

2D high-resolution measurement of E/N temporal evolution of coplanar helium DBD

Autoři

ČECH, Jan, Tomáš MORÁVEK, Zdeněk NAVRÁTIL, Michal ŠTIPL a Jozef RÁHEĽ

Vydání

Prague, 28th Symposium on Plasma Physics and Technology; vol. 5, no. 1 - Abstracts, Fast tracking, s. 21-21, 2018

Nakladatel

Czech Technical University in Prague

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISSN

Klíčová slova anglicky

coplanar; DBD; electric field; 2D; imaging; ICCD

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 9. 7. 2018 10:07, Mgr. Jan Čech, Ph.D.

Anotace

V originále

The precise 2D resolved data on spatio-temporal evolution of electric field are essential for understanding the uncharted dynamics of electron driven processes, such as during the formation of surface barrier discharge with coplanar electrodes configuration. The method of local E/N evaluation from the ratio of helium atomic lines intensities [S. S. Ivkovic et al, J. Phys. D: Appl. Phys. 47, 055204 (2014)] was adopted into the novel spectroscopic technique enabling fast, highly spatially resolved 2D imaging of the electric field temporal evolution. The technique was based on the employing of the ICCD camera to monitor simultaneously the discharge space via a pair of interference filters. This resulted in a synchronized, phase resolved 2D imaging of He atomic line intensities development. Achieved spatio-temporal resolution was 50 ns, resp. 25×25 μm^2 . Measurements revealed the anode/cathode directed wave fronts of high electric field peaking approx. 40 kV/cm.

Návaznosti

LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy