C 2018

Universal Dispersion Model for Characterization of Thin Films Over Wide Spectral Range

FRANTA, Daniel, Jiří VOHÁNKA a Martin ČERMÁK

Základní údaje

Originální název

Universal Dispersion Model for Characterization of Thin Films Over Wide Spectral Range

Autoři

FRANTA, Daniel (203 Česká republika, domácí), Jiří VOHÁNKA (203 Česká republika, domácí) a Martin ČERMÁK (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Cham, Optical Characterization of Thin Solid Films, od s. 31-82, 52 s. Springer Series in Surface Sciences, volume 64, 2018

Nakladatel

Springer

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Kapitola resp. kapitoly v odborné knize

Obor

10306 Optics

Stát vydavatele

Švýcarsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Kód RIV

RIV/00216224:14310/18:00104688

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-3-319-75324-9

UT WoS

000441388800005

Klíčová slova anglicky

Dispersion models;Dielectric response;Damped harmonic oscillators;Coupled modes;Parametrization of the joint density of states

Štítky

Změněno: 28. 11. 2018 15:32, Mgr. Jiří Vohánka, Ph.D.

Anotace

V originále

The universal dispersion model is a collection of dispersion models (contributions to the dielectric response) describing individual elementary excitation in solids. All contributions presented in this chapter satisfy the basic conditions that follow from the theory of dispersion (time reversal symmetry, Kramers--Kronig consistency and finite sum rule integral). The individual contributions are presented in an unified formalism. In this formalism the spectral distributions of the contributions are parameterized using dispersion functions normalized with respect to the sum rule. These normalized dispersion functions must be multiplied by the transition strengths parameters which can be related to the density of charged particles. The separation of contributions into the transitions strengths and normalized spectral distributions is beneficial since it allows us to elegantly introduce the temperature dependencies into these models.

Návaznosti

LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy