J 2018

Different theoretical approaches at optical characterization of randomly rough silicon surfaces covered with native oxide layers

OHLÍDAL, Ivan, Jiří VOHÁNKA, Jan MISTRÍK, Martin ČERMÁK, Daniel FRANTA et. al.

Základní údaje

Originální název

Different theoretical approaches at optical characterization of randomly rough silicon surfaces covered with native oxide layers

Autoři

OHLÍDAL, Ivan (203 Česká republika, domácí), Jiří VOHÁNKA (203 Česká republika, domácí), Jan MISTRÍK (203 Česká republika, domácí), Martin ČERMÁK (203 Česká republika, domácí) a Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Surface and Interface Analysis, Wiley, 2018, 0142-2421

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10306 Optics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.319

Kód RIV

RIV/00216224:14310/18:00104690

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000448889600046

Klíčová slova anglicky

native oxide layers;optical characterization;roughness;silicon surfaces
Změněno: 2. 5. 2019 16:16, Mgr. Tereza Miškechová

Anotace

V originále

Results of the optical characterization of randomly rough silicon surfaces covered with native oxide layers based on processing experimental data obtained by ellipsometry and reflectometry are presented. It is shown that the Rayleigh-Rice theory is suitable theoretical approach for characterizing micro-rough surfaces in contrast to effective medium approximation. Combination of the Rayleigh-Rice theory and scalar diffraction theory is efficient and reliable approach for characterizing rougher surfaces with the rms values of heights larger than 10 nm. Thickness of native oxide layers and roughness parameters, ie, the rms values of heights and autocorrelation lengths, are determined for micro-rough and rougher surfaces using the corresponding theoretical approaches.

Návaznosti

LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy