BRITUN, Nikolay, Jaroslav HNILICA a Rony SNYDERS. Optical spectroscopy as a tool for visualization of sputtering plasma dynamics. In International Workshop: PLASMA DIAGNOSTICS AND MODELLING. 2018.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Optical spectroscopy as a tool for visualization of sputtering plasma dynamics
Autoři BRITUN, Nikolay (56 Belgie, garant), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Rony SNYDERS (56 Belgie).
Vydání International Workshop: PLASMA DIAGNOSTICS AND MODELLING, 2018.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/18:00105340
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky magnetron sputtering; deposition process; LIF
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D., učo 106259. Změněno: 9. 1. 2019 10:36.
Anotace
This work combines various optical diagnostic methods for in-situ characterization of high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) process. Special attention is devoted to two-dimensional visualization of the ground state sputtered atoms in the discharge volume. Laser-induced fluorescence and optical absorption spectroscopy represent two main diagnostic techniques which have been combined for the discharge diagnostics. As a result of discharge characterization the number densities as well as the particularities of propagation of the neutral and ionized sputtered Ti atoms were significantly clarified. The effects of HiPIMS plasma-on and plasma-off time duration on the Ti ionization as well as on the general evolution of density distribution in the discharge volume have been studied, demonstrating the importance of plasma pulse duration as well as the pulse energy for controlling the discharge properties.
Návaznosti
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 25. 8. 2024 11:10