a 2018

Optical spectroscopy as a tool for visualization of sputtering plasma dynamics

BRITUN, Nikolay, Jaroslav HNILICA a Rony SNYDERS

Základní údaje

Originální název

Optical spectroscopy as a tool for visualization of sputtering plasma dynamics

Autoři

BRITUN, Nikolay (56 Belgie, garant), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Rony SNYDERS (56 Belgie)

Vydání

International Workshop: PLASMA DIAGNOSTICS AND MODELLING, 2018

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/18:00105340

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

magnetron sputtering; deposition process; LIF

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 9. 1. 2019 10:36, doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.

Anotace

V originále

This work combines various optical diagnostic methods for in-situ characterization of high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) process. Special attention is devoted to two-dimensional visualization of the ground state sputtered atoms in the discharge volume. Laser-induced fluorescence and optical absorption spectroscopy represent two main diagnostic techniques which have been combined for the discharge diagnostics. As a result of discharge characterization the number densities as well as the particularities of propagation of the neutral and ionized sputtered Ti atoms were significantly clarified. The effects of HiPIMS plasma-on and plasma-off time duration on the Ti ionization as well as on the general evolution of density distribution in the discharge volume have been studied, demonstrating the importance of plasma pulse duration as well as the pulse energy for controlling the discharge properties.

Návaznosti

LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy