KRUMPOLEC, Richard, Miroslav ZEMÁNEK, Zlata TUČEKOVÁ a Jakub KELAR. Roll-to-roll surface etching of polymers using hydrogen plasma at atmospheric pressure. In NANOCON 2017 - Conference Proceedings, 9th International Conference on Nanomaterials - Research and Application. Ostrava, Czech Republic: TANGER Ltd., 2018, s. 283-288. ISBN 978-80-87294-81-9.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Roll-to-roll surface etching of polymers using hydrogen plasma at atmospheric pressure
Autoři KRUMPOLEC, Richard (703 Slovensko, domácí), Miroslav ZEMÁNEK (203 Česká republika, domácí), Zlata TUČEKOVÁ (703 Slovensko, domácí) a Jakub KELAR (203 Česká republika, domácí).
Vydání Ostrava, Czech Republic, NANOCON 2017 - Conference Proceedings, 9th International Conference on Nanomaterials - Research and Application, od s. 283-288, 6 s. 2018.
Nakladatel TANGER Ltd.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 21000 2.10 Nano-technology
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání paměťový nosič (CD, DVD, flash disk)
WWW URL URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/18:00106632
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-87294-81-9
UT WoS 000452823300047
Klíčová slova anglicky Atmospheric pressure; DCSBD; Hydrogen; Plasma etching; Polymers
Změnil Změnila: RNDr. Zlata Kelar Tučeková, PhD., učo 454060. Změněno: 23. 1. 2020 12:39.
Anotace
This paper reports on plasma surface etching of three different polymers using a low-temperature (80°C) atmospheric-pressure plasma generated in pure hydrogen by a diffuse coplanar surface barrier discharge. Flexible polymer foils were plasma-modified in roll-to-roll configuration. Three polymers, polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), and polyimide (PI) foils were exhibited to the hydrogen plasma etching. Scanning electron microscopy was used to determine the change in the thickness of the samples from the measurement of cross-section images of polymer foils. As shown, the etching rate of tested samples was of the order of ~10-100 nm.min-1. Therefore, the presented method is suitable for precise etching of nanostructures and thin polymer film or flexible polymer substrates. © 2018 TANGER Ltd. All Rights Reserved.
Návaznosti
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 06:22