ENVIRONMENTAL STABILITY OF NITROGEN CONTAINING PLASMA-POLYMERIZED HEXAMETHYLDISILOXANE FILMS

KELAROVÁ, Štěpánka, Roman PŘIBYL, Vojtěch HOMOLA, Richard VÁCLAVIK, Monika STUPAVSKÁ, Lukáš KELAR and Vilma BURŠÍKOVÁ. ENVIRONMENTAL STABILITY OF NITROGEN CONTAINING PLASMA-POLYMERIZED HEXAMETHYLDISILOXANE FILMS. In Czech Soc New Mat & Technol; Region Ctr Adv Technol & Mat. 9TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOMATERIALS - RESEARCH & APPLICATION (NANOCON 2017). Brno: TANGER Ltd, 2018, p. 842-847. ISBN 978-80-87294-81-9.

Basic information

• Original name: ENVIRONMENTAL STABILITY OF NITROGEN CONTAINING PLASMA-POLYMERIZED HEXAMETHYLDISILOXANE FILMS
• Name in Czech: Environmentální stabilita tenkých vrstev hexamethyldisiloxanu s obsahem dusíku připravených pomocí plazmové polymerace
• Authors: KELAROVÁ, Štěpánka (203 Czech Republic, belonging to the institution), Roman PŘIBYL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Vojtěch HOMOLA (203 Czech Republic, belonging to the institution), Richard VÁCLAVIK (703 Slovakia, belonging to the institution), Monika STUPAVSKÁ (703 Slovakia, belonging to the institution), Lukáš KELAR (203 Czech Republic, belonging to the institution) and Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution).
• Edition: Brno, 9TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOMATERIALS - RESEARCH & APPLICATION (NANOCON 2017), p. 842-847, 6 pp. 2018.
• Publisher: TANGER Ltd

Other information

• Original language: English
• Type of outcome: Proceedings paper
• Field of Study: 10305 Fluids and plasma physics
• Country of publisher: Czech Republic
• Confidentiality degree: is not subject to a state or trade secret
• Publication form: storage medium (CD, DVD, flash disk)
• RIV identification code: RIV/00216224:14310/18:00101810
• Organization unit: Faculty of Science
• ISBN: 978-80-87294-81-9
• UT WoS: 000452823300140
• Keywords (in Czech): Plazmové polymery, plazmochemická depozice z plynné fáze, FTIR, nanoindentace
• Keywords in English: Plasma polymer films; plasma enhanced chemical vapor deposition; FTIR; nanoindentation
• Tags: International impact, Reviewed

Abstract

Nitrogen incorporated organosilicon films were prepared by means of plasma enhanced chemical vapor deposition using capacitively coupled RF glow discharges in mixtures of hexamethyldisiloxane and nitrogen. The flow rate of nitrogen was 2-10 sccm and the flow rate of hexamethyldisiloxane was 0.3-0.4 sccm. The power supply of CCP was 50 W. The environmental stability of the deposited films was studied using confocal microscopy, spectroscopic ellipsometry and FTIR (Fourier Transform Infrared Spectroscopy). The humidity induced structure changes resulted in substantial change of mechanical properties of the studied films. The mechanical properties were studied using nanoindentation techniques.

Abstract (in Czech)

Organosilikonové tenké vrstvy s obsahem dusíku byly připraveny pomocí plazmochemické depozice z plynné fáze za použití RF kapacitně vázaného doutnavého výboje ze směsi hexamethyldisiloxanu a dusíku.Průtok dusíku se pohyboval v rozmezí 2-10 sccm, průtok hexamethyldisiloxanu byl udržován v rozmezí 0,3-0,4 sccm. Výkon dodávaný do výboje byl 50 W. Stabilita vyrobených tenkých vrstev v okolním prostředí byla studována pomocí konfokální mikroskopie, elipsometrie a FTIR. Strukturální změny studovaných vrstev způsobené okolní vlhkostí měly výrazný vliv na jejich mechanické vlastnosti. Mechanické vlastnosti byly studovány pomocí nanoindentačních metod.

Links

• GA15-17875S, research and development project: Name: Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků

Investor: Czech Science Foundation

• LO1411, research and development project: Name: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Acronym: CEPLANT plus)

Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR