HNILICA, Jaroslav, Peter KLEIN, Marta ŠLAPANSKÁ, James BRADLEY a Petr VAŠINA. Fast camera imaging and strip probe measurements of spokes in HiPIMS plasma. In THE 15th INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON SPUTTERING & PLASMA PROCESSES. 2019. ISSN 2434-9674.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Fast camera imaging and strip probe measurements of spokes in HiPIMS plasma
Autoři HNILICA, Jaroslav (203 Česká republika, garant, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Marta ŠLAPANSKÁ (203 Česká republika, domácí), James BRADLEY (826 Velká Británie a Severní Irsko) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí).
Vydání THE 15th INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON SPUTTERING & PLASMA PROCESSES, 2019.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Japonsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/19:00110142
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISSN 2434-9674
Klíčová slova anglicky magnetron sputtering; HiPIMS; spokes; fast camera; strip probe
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnila: Mgr. Marta Šlapanská, Ph.D., učo 408884. Změněno: 5. 5. 2021 13:40.
Anotace
The simultaneous measurements using three strip probes flush-mounted into the segmented target together with the fast camera optical imaging are presented. 2D reconstruction of the spokes from current measured by the strip probes is compared to the broadband plasma emission image. Additionally, the dual diagnostic system allows the merging of a set of spokes to be studied as they rotate.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA19-00579S, projekt VaVNázev: Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 27. 4. 2024 03:37