Symmetrical and asymmetrical multi-hollow surface dielectric barrier discharge configurations and ...
KELAR, Jakub, Zlata KELAR TUČEKOVÁ, Miroslav ZEMÁNEK a Richard KRUMPOLEC. Symmetrical and asymmetrical multi-hollow surface dielectric barrier discharge configurations and their fundamental parameters. In The Eight Central European Symposium on Plasma Chemistry - CESPC-8 Proceedings, 2019. 2019. ISBN 978-961-94716-0-9. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | Symmetrical and asymmetrical multi-hollow surface dielectric barrier discharge configurations and their fundamental parameters |
Autoři | KELAR, Jakub, Zlata KELAR TUČEKOVÁ, Miroslav ZEMÁNEK a Richard KRUMPOLEC. |
Vydání | The Eight Central European Symposium on Plasma Chemistry - CESPC-8 Proceedings, 2019. 2019. |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | angličtina |
Typ výsledku | Konferenční abstrakt |
Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
Stát vydavatele | Slovinsko |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
ISBN | 978-961-94716-0-9 |
Příznaky | Mezinárodní význam |
Změnil | Změnila: RNDr. Zlata Kelar Tučeková, PhD., učo 454060. Změněno: 1. 8. 2019 15:38. |
Návaznosti | |
---|---|
CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MU | Název: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy |
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra | |
LO1411, projekt VaV | Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus) |
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy | |
TJ01000327, projekt VaV | Název: Komercializace redukčního plazmatu generovaného při atmosférickém tlaku pro in-line průmyslné aplikace |
Investor: Technologická agentura ČR, Komercializace redukčního plazmatu generovaného při atmosférickém tlaku pro in-line průmyslné aplikace |
VytisknoutZobrazeno: 14. 10. 2024 09:38