D 2019

Electrodeposited metal matrix composite layers reinforced by plasma activated Al2O3 and WC ceramic powders

ILČÍKOVÁ, Martina, Barbora PIJÁKOVÁ, L. D. RAFAILOVIC, A. STANKOVIC, Vilma BURŠÍKOVÁ et. al.

Základní údaje

Originální název

Electrodeposited metal matrix composite layers reinforced by plasma activated Al2O3 and WC ceramic powders

Autoři

ILČÍKOVÁ, Martina (703 Slovensko, garant, domácí), Barbora PIJÁKOVÁ (703 Slovensko, domácí), L. D. RAFAILOVIC, A. STANKOVIC, Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí) a Jozef RÁHEĽ (703 Slovensko, domácí)

Vydání

Bratislava, PROCESSING AND PROPERTIES OF ADVANCED CERAMICS AND GLASSES : Book of extended abstracts, od s. 139-142, 5 s. 2019

Nakladatel

Institute of Inorganic Chemistry SAS

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

20504 Ceramics

Stát vydavatele

Slovensko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

paměťový nosič (CD, DVD, flash disk)

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/19:00134432

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-971648-8-1

Klíčová slova česky

elektrodepozice; MMC vrstvy; DBD plazma

Klíčová slova anglicky

electrodepositon; MMC layers; DBD plasma

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 25. 4. 2024 10:52, Mgr. Marie Šípková, DiS.

Anotace

V originále

Plasma activated tungsten carbide and alumina ceramic powders were evaluated for their impact on electrochemical deposition of Cu and Ni metal matrix composite layers on steel substrate. Plasma activation was done by coplanar dielectric barrier discharge, operating in air at atmospheric pressure. In all experiments surface microstructure involving plasma activated powders was altered. More importantly, plasma treatment provided a statistically significant change in hardness of deposited layers. The effect was most pronounced for Cu metal matrix.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TG02010067, projekt VaV
Název: Rozvoj systému komercializace výsledků VaV na Masarykově univerzitě (Akronym: Rozvoj systému komercializace na MU)
Investor: Technologická agentura ČR, Rozvoj systému komercializace výsledků VaV na Masarykově univerzitě II., Podprogram 1