k 2019

Influence of plasma discharge instability on the synthesis of graphene nanosheets in dual-channel microwave plasma torch at atmospheric pressure

TOMAN, Jozef, Ondřej JAŠEK, Miroslav ŠNÍRER, Vít KUDRLE, Jana JURMANOVÁ et. al.

Základní údaje

Originální název

Influence of plasma discharge instability on the synthesis of graphene nanosheets in dual-channel microwave plasma torch at atmospheric pressure

Autoři

TOMAN, Jozef (703 Slovensko, domácí), Ondřej JAŠEK (203 Česká republika, garant, domácí), Miroslav ŠNÍRER (703 Slovensko, domácí), Vít KUDRLE (203 Česká republika, domácí) a Jana JURMANOVÁ (203 Česká republika, domácí)

Vydání

24th International Symposium on Plasma Chemistry, Naples, Italy, 2019, 2019

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Prezentace na konferencích

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Itálie

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/19:00107910

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

graphene; nanosheet; microwave; plasma; torch; decomposition; synthesis
Změněno: 4. 1. 2020 15:34, Mgr. Jozef Toman, Ph.D.

Anotace

V originále

Influence of the interplay between central (Q C ) and secondary (Q S ) channel gas flow as well as delivered microwave power (P MW ) during graphene nanosheets synthesis in microwave plasma was investigated. Argon was used as a working gas as well as a carrier gas for ethanol precursor. In dual channel configuration, plasma discharge can be sustained even at high flow rates of ethanol due to the separation of working and carrier gas. Depending on the Q C , Q S flow rates and delivered microwave power, high quality carbon nanostructures with controlled properties were prepared.

Návaznosti

GA18-08520S, projekt VaV
Název: Studium procesu nukleace dvourozměrných uhlíkových nanostruktur v mikrovlnném plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Studium procesu nukleace dvourozměrných uhlíkových nanostruktur v mikrovlnném plazmatu
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy