2019
Optical characterization of inhomogeneous thin films containing transition layers using the combined method of spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry based on multiple-beam interference model
OHLÍDAL, Ivan, Jiří VOHÁNKA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Jaroslav ŽENÍŠEK, Petr VAŠINA et. al.Základní údaje
Originální název
Optical characterization of inhomogeneous thin films containing transition layers using the combined method of spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry based on multiple-beam interference model
Autoři
OHLÍDAL, Ivan (203 Česká republika, domácí), Jiří VOHÁNKA (203 Česká republika, domácí), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Jaroslav ŽENÍŠEK (203 Česká republika, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí), Martin ČERMÁK (203 Česká republika, domácí) a Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí)
Vydání
Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics, 2019, 2166-2746
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10306 Optics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 1.511
Kód RIV
RIV/00216224:14310/19:00107920
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000522021700072
Klíčová slova anglicky
Optical constants;Optical absorption;Reflectometry;Magnetron sputtering;Optical metrology;Thin films;Chemical vapor deposition;Optical properties
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 4. 2020 17:19, Mgr. Marie Šípková, DiS.
Anotace
V originále
This paper presents the results of the optical characterization of inhomogeneous thin films of polymer-like SiOxCyHz and non-stoichiometric silicon nitride SiNx. An efficient method combining variable angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry applied at the near-normal incidence based on the multiple-beam interference model is utilized for this optical characterization. The multiple-beam interference model allows us to quickly evaluate the values of ellipsometric parameters and reflectance of the inhomogeneous thin films, which exhibit general profiles of their optical constants. The spectral dependencies of the optical constants of the inhomogeneous SiOxCyHz and SiNx thin films are determined using the Campi–Coriasso dispersion model. The profiles of the optical constants of these films can also be determined. Furthermore, the transition layers at the lower boundaries of the characterized films are also taken into account. Spectral dependencies of the optical constants of these transition layers are also determined using the Campi–Coriasso dispersion model.
Návaznosti
GA19-15240S, projekt VaV |
| ||
LO1411, projekt VaV |
|