Technologie pro depozici materiálu napařováním
HNILICA, Jaroslav, Peter KLEIN, Katarína BERNÁTOVÁ, Marta ŠLAPANSKÁ a Petr VAŠINA. Technologie pro depozici materiálu napařováním. 2019. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | Technologie pro depozici materiálu napařováním |
Název česky | Technologie pro depozici materiálu napařováním |
Název anglicky | Technology for thin film deposition by arc |
Autoři | HNILICA, Jaroslav (203 Česká republika, garant, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Katarína BERNÁTOVÁ (703 Slovensko, domácí), Marta ŠLAPANSKÁ (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika). |
Vydání | 2019. |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | čeština |
Typ výsledku | Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda, plemeno |
Obor | 20506 Coating and films |
Stát vydavatele | Česká republika |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
Kód RIV | RIV/00216224:14310/19:00108409 |
Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
Klíčová slova česky | napařování obloukem; depoziční proces |
Klíčová slova anglicky | arc; deposition process |
Technické parametry | V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv tlaku, proudu, magnetického pole, frekvence buzení a střídy na depoziční rychlost a tok iontů. Oblouk byl buzen stejnosměrně i pulzně. Navržená technologie je charakterizována těmito depozičními podmínkami: stejnosměrné buzení za tlaku 1 Pa, magnetického pole 4 A a střídy 100% a pulzní za tlaku 1 Pa, frekvenci 20 kHz a střídě 40 %. |
Změnil | Změnil: doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D., učo 106259. Změněno: 24. 1. 2020 09:27. |
Anotace |
---|
Navržená technologie ukazuje, že použití stejnosměrného oblouku vede ke více než dvojnásobně rychlejší depozici vrstvy v porovnání s pulzním obloukem, a tedy je proces mnohem efektivnější a méně energeticky náročný. Použitím pulzního oblouku ovšem umožňuje zvýšit tok iontů o téměř jeden řád, což vyústí k přípravě mnohem kvalitnějších deponovaných vrstev (nižší drsnosti či větší hustotě), což vyústí ve větší přidanou hodnotu daných vrstev. |
Anotace anglicky |
---|
The proposed technology shows that the use of a DC arc leads to more than twice as fast layer deposition as a pulsed arc, making the process much more efficient and less energy-consuming. However, using a pulsed arc, the ion flux is increased by almost one order, resulting in higher quality layers (lower roughness or greater density), resulting in the higher added value of the layers. |
Návaznosti | |
---|---|
TJ01000157, projekt VaV | Název: Optimalizace procesu depozice průmyslových ochranných povlaků |
Investor: Technologická agentura ČR, Optimalizace procesu depozice průmyslových ochranných povlaků |
VytisknoutZobrazeno: 6. 10. 2024 18:18