a 2020

Behaviour of spokes in reactive HiPIMS

KLEIN, Peter, Jaroslav HNILICA, Matej FEKETE, Marta ŠLAPANSKÁ, Petr VAŠINA et. al.

Základní údaje

Originální název

Behaviour of spokes in reactive HiPIMS

Autoři

Vydání

Workshop on Plasma-Based Synthesis of Nanomaterials, 2020

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

HiPIMS; Spoke; Reaktivní Naprašování

Klíčová slova anglicky

HiPIMS; Spoke; Reactive sputtering

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 29. 4. 2021 19:00, Mgr. Marie Šípková, DiS.

Anotace

V originále

Plasma in high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge, similarly to other discharges utilizing ExB field (Hall thrusters, homopolar devices), undergoes self-organization into the ionization zones rotating in the ExB direction, called spokes [1]. Many studies were conducted focusing on the characterization of their appearance, number, rotational velocity, merging and splitting events in different experimental conditions. Nevertheless, only very little research was conducted in the case of reactive sputtering, where only general spoke characteristics were evaluated [2]. A dual-image fast camera screening was utilized to capture plasma emission on 3” Nb target in a reactive mixture of nitrogen and argon. Spoke characteristics were evaluated while overall pressure and supplied power was kept constant and the ratio of N2/Ar was varied. The shape, velocity and spoke number were significantly affected by higher ratio of N2 in the mixture. To distinguish between the effects of the poisoned target and reactive gas present in the plasma on spokes, plasma emission was screened as the Nb target was cleaned in pure Ar atmosphere. Additionally, obtained spoke characteristics were compared to those made on a fully compound NbN target

Návaznosti

GA19-00579S, projekt VaV
Název: Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
LM2018097, projekt VaV
Název: Centrum výzkumu a vývoje plazmatu a nanotechnologických povrchových úprav (Akronym: CEPLANT)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications