a 2019

Deposition of Copper Halide Films for Optoelectronic Applications

KRUMPOLEC, Richard, Dominik BAČA, Jana JURMANOVÁ, Pavel KUNOVSKÝ, Josef HUMLÍČEK et. al.

Základní údaje

Originální název

Deposition of Copper Halide Films for Optoelectronic Applications

Autoři

KRUMPOLEC, Richard, Dominik BAČA, Jana JURMANOVÁ, Pavel KUNOVSKÝ, Josef HUMLÍČEK a David Campbell CAMERON

Vydání

2019

Další údaje

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

ISBN

978-80-210-9487-1

Klíčová slova anglicky

atomic layer deposition, copper chloride, copper bromide, copper iodide, nucleation, film growth, nanocrystals

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 15. 4. 2020 17:04, RNDr. Richard Krumpolec, PhD.

Návaznosti

GA17-02328S, projekt VaV
Název: UVIHOPE Ultrafialová halogenidová optoelektronika (Akronym: UVIHOPE)
Investor: Grantová agentura ČR, UVIHOPE Ultrafialová halogenidová optoelektronika
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy