Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů
ČADA, Martin, Zdeněk HUBIČKA, Jaroslav HNILICA, Peter KLEIN a Petr VAŠINA. Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů. 2020. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů |
Název česky | Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů |
Název anglicky | Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages |
Autoři | ČADA, Martin (203 Česká republika), Zdeněk HUBIČKA (203 Česká republika), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, garant, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí). |
Vydání | 2020. |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | čeština |
Typ výsledku | Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) |
Obor | 20506 Coating and films |
Stát vydavatele | Česká republika |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
Kód RIV | RIV/00216224:14310/20:00114917 |
Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
Klíčová slova anglicky | Sputtering; thin films; plasma; deposition; deposition rate; pulse package; ionization fraction |
Technické parametry | V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv délky pulzu, vzdálenosti mezi pulzy a počet pulzů. Navržený funkční vzorek je charakterizován těmito depozičními podmínkami: materiál terče titan, střední výkon 1 kW, tlak 1 Pa, délka pulzu 30 us, vzdálenost mezi pulzy v balíčku 20us, počet pulzů 4, magnetické pole otevřené. |
Změnil | Změnil: doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D., učo 106259. Změněno: 16. 2. 2021 07:55. |
Anotace |
---|
V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů. Změřené parametry plazmatu prokázali, že zařízení je schopné zdvojnásobit depoziční rychlosti při zachování ionizačního stupně rozprášených částic. |
Anotace anglicky |
---|
As a part of the TAČR project, we have developed a device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages. The measured plasma parameters showed that the device is capable to double the deposition rate while the ionization fraction of sputtered species remain the same. |
Návaznosti | |
---|---|
TN01000038, projekt VaV | Název: Národní centrum kompetence pro materiály, pokročilé technologie, povlakování a jejich aplikace (Akronym: MATCA) |
Investor: Technologická agentura ČR, Národní centrum kompetence pro materiály, pokročilé technologie, povlakování a jejich aplikace |
VytisknoutZobrazeno: 7. 10. 2024 04:20