ČADA, Martin, Zdeněk HUBIČKA, Jaroslav HNILICA, Peter KLEIN a Petr VAŠINA. Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů. 2020.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů
Název česky Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů
Název anglicky Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages
Autoři ČADA, Martin (203 Česká republika), Zdeněk HUBIČKA (203 Česká republika), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, garant, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí).
Vydání 2020.
Další údaje
Originální jazyk čeština
Typ výsledku Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Obor 20506 Coating and films
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/20:00114917
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky Sputtering; thin films; plasma; deposition; deposition rate; pulse package; ionization fraction
Technické parametry V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv délky pulzu, vzdálenosti mezi pulzy a počet pulzů. Navržený funkční vzorek je charakterizován těmito depozičními podmínkami: materiál terče titan, střední výkon 1 kW, tlak 1 Pa, délka pulzu 30 us, vzdálenost mezi pulzy v balíčku 20us, počet pulzů 4, magnetické pole otevřené.
Změnil Změnil: doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D., učo 106259. Změněno: 16. 2. 2021 07:55.
Anotace
V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů. Změřené parametry plazmatu prokázali, že zařízení je schopné zdvojnásobit depoziční rychlosti při zachování ionizačního stupně rozprášených částic.
Anotace anglicky
As a part of the TAČR project, we have developed a device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages. The measured plasma parameters showed that the device is capable to double the deposition rate while the ionization fraction of sputtered species remain the same.
Návaznosti
TN01000038, projekt VaVNázev: Národní centrum kompetence pro materiály, pokročilé technologie, povlakování a jejich aplikace (Akronym: MATCA)
Investor: Technologická agentura ČR, Národní centrum kompetence pro materiály, pokročilé technologie, povlakování a jejich aplikace
VytisknoutZobrazeno: 4. 9. 2024 04:26