Controlling the plasmonic properties of titanium nitride thin films by radiofrequency substrate biasing in magnetron sputtering

MASCARETTI, Luca, Tapan BARMAN, Filip MÜNZ a Beatrice Roberta BRICCHI. Controlling the plasmonic properties of titanium nitride thin films by radiofrequency substrate biasing in magnetron sputtering. Applied Surface Science. Elsevier Science, 2021, roč. 2021, č. 554, s. 149543-149551. ISSN 0169-4332. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.149543.

Základní údaje

Originální název

Controlling the plasmonic properties of titanium nitride thin films by radiofrequency substrate biasing in magnetron sputtering

Autoři

MASCARETTI, Luca, Tapan BARMAN, Filip MÜNZ a Beatrice Roberta BRICCHI

Vydání

Applied Surface Science, Elsevier Science, 2021, 0169-4332

---

Další údaje

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 7.392

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.149543

UT WoS

000647733600004

Klíčová slova anglicky

Titanium nitride thin films,Magnetron sputtering,Plasmonics,Spectroscopic ellipsometry,Electrical resistivity

Štítky

RIV ne

---

Anotace

V originále

We report the effect of radiofrequency (RF) substrate biasing during the sputtering process on the structural, optical and electrical properties of TiN films. We employ spectroscopic ellipsometry as a sensible characterization method and we show that a moderate RF power, despite reducing the grain size, allows to achieve optimal plasmonic quality factors and a low resistivity.