SHEKARGOFTAR, Masoud, Jan POSPISIL, Matouš KRATOCHVÍL, Július VIDA, Pavel SOUČEK a Tomáš HOMOLA. Low‐Temperature and Rapid Deposition of an SnO2 Layer from a Colloidal Nanoparticle Dispersion for Use in Planar Perovskite Solar Cells. Energy Technology. Weinheim: Wiley-VCH GmbH, 2021, roč. 9, č. 5, s. "2001076-1"-"2001076-7", 7 s. ISSN 2194-4288. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1002/ente.202001076.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Low‐Temperature and Rapid Deposition of an SnO2 Layer from a Colloidal Nanoparticle Dispersion for Use in Planar Perovskite Solar Cells
Autoři SHEKARGOFTAR, Masoud (364 Írán, garant, domácí), Jan POSPISIL, Matouš KRATOCHVÍL, Július VIDA (703 Slovensko, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí) a Tomáš HOMOLA (703 Slovensko, domácí).
Vydání Energy Technology, Weinheim, Wiley-VCH GmbH, 2021, 2194-4288.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Německo
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 4.149
Kód RIV RIV/00216224:14310/21:00118954
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1002/ente.202001076
UT WoS 000639030000001
Klíčová slova anglicky electron transport layers; low-temperature plasma; perovskite solar cells; SnO2
Štítky rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 27. 2. 2024 13:50.
Anotace
Deposition of the electron transport layer (ETL) is an important step in the manufacture of low‐cost, solution‐processed perovskite solar cells (PSCs). Thermal annealing processes account for a major part of the energy consumption involved in the fabrication of PSCs. The current paper presents a plasma‐based and highly convenient method (5 min, <60 °C) for the deposition of SnO2 films (PT‐SnO2) from a colloidal nanoparticle dispersion. A comparative evaluation of PT‐SnO2 films with those created by state‐of‐the‐art thermal annealing (30 min, 180 °C) (TA‐SnO2) is made herein. The key mechanism in the formation of the SnO2 layer is explained in relation to the evaporation of the dispersion medium. This comparison of PT‐SnO2 and TA‐SnO2 indicates a considerable difference in terms of energy consumption directly relevant to the low‐cost manufacture of PSCs. Photoluminescence analysis revealed no particular differences in the charge extraction of the two types of SnO2 films. The SnO2 films were subsequently employed as an ETL in planar n‐i‐p PSCs. Results revealed that the PSC resulting from PT‐SnO2 yielded an efficiency of 15.17%, similar to that of 15.91% corresponding to TA‐SnO2. In addition, the PSC fabricated on the PT‐SnO2 maintaining ≈80% of its initial performance after 21 days in ambient conditions.
Návaznosti
GJ19-14770Y, projekt VaVNázev: Plazmatem produkované nanostrukturované vrstvy pro flexibilní materiály nové generace
Investor: Grantová agentura ČR, Plasma engineering of nanostructured coatings for next-generation flexible materials
90097, velká výzkumná infrastrukturaNázev: CEPLANT
90110, velká výzkumná infrastrukturaNázev: CzechNanoLab
VytisknoutZobrazeno: 25. 8. 2024 11:10