k 2021

Investigation of ionized density fraction in reactive HiPIMS

BERNÁTOVÁ, Katarína, Peter KLEIN, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Investigation of ionized density fraction in reactive HiPIMS

Název česky

Studium ionizačního podílu titanu v reaktivním HiPIMS procesu

Autoři

BERNÁTOVÁ, Katarína (703 Slovensko, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí)

Vydání

International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, 2021

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Prezentace na konferencích

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/21:00119556

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

diagnostika plazmy; ionizačný stupeň; titán; dusík; pulzní magnetronové naprašování

Klíčová slova anglicky

plasma diagnostic; ionisation fraction; titanium; nitrogen; pulsed magnetron sputtering
Změněno: 13. 1. 2022 10:22, Mgr. Marie Šípková, DiS.

Anotace

ORIG CZ

V originále

The presentation described and explained behaviour of the temporal evolution of sputtered particles densities and their ionized density fraction near the target and the substrate during the HiPIMS process. Four main regimes of the hysteresis in the argon-nitrogen atmosphere including two in the metallic regime, the transition regime and the compound regime were compared.

Česky

Prezentace popsala a vysvětlila chování časového vývoje hustot rozprašovaných částic a jejich ionizační podíl v blízkosti terče a substrátu během HiPIMS procesu. Byly porovnány čtyři hlavní režimy hystereze v argon-dusíkové atmosféře včetně dvou v kovovém režimu, přechodovém režimu a otráveném režimu.

Návaznosti

GA19-00579S, projekt VaV
Název: Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
LM2018097, projekt VaV
Název: Centrum výzkumu a vývoje plazmatu a nanotechnologických povrchových úprav (Akronym: CEPLANT)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications