BERNÁTOVÁ, Katarína, Peter KLEIN, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA. Investigation of ionized density fraction in reactive HiPIMS. In International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films. 2021.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Investigation of ionized density fraction in reactive HiPIMS
Název česky Studium ionizačního podílu titanu v reaktivním HiPIMS procesu
Autoři BERNÁTOVÁ, Katarína (703 Slovensko, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí).
Vydání International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, 2021.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Prezentace na konferencích
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW Konferenčný web
Kód RIV RIV/00216224:14310/21:00119556
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky diagnostika plazmy; ionizačný stupeň; titán; dusík; pulzní magnetronové naprašování
Klíčová slova anglicky plasma diagnostic; ionisation fraction; titanium; nitrogen; pulsed magnetron sputtering
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 13. 1. 2022 10:22.
Anotace
The presentation described and explained behaviour of the temporal evolution of sputtered particles densities and their ionized density fraction near the target and the substrate during the HiPIMS process. Four main regimes of the hysteresis in the argon-nitrogen atmosphere including two in the metallic regime, the transition regime and the compound regime were compared.
Anotace česky
Prezentace popsala a vysvětlila chování časového vývoje hustot rozprašovaných částic a jejich ionizační podíl v blízkosti terče a substrátu během HiPIMS procesu. Byly porovnány čtyři hlavní režimy hystereze v argon-dusíkové atmosféře včetně dvou v kovovém režimu, přechodovém režimu a otráveném režimu.
Návaznosti
GA19-00579S, projekt VaVNázev: Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
LM2018097, projekt VaVNázev: Centrum výzkumu a vývoje plazmatu a nanotechnologických povrchových úprav (Akronym: CEPLANT)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications
VytisknoutZobrazeno: 22. 7. 2024 23:17