C 1995

Depozice a charakterizace tenkých vrstev připravených ze směsi TEOS+O2 ve vf plazmatu

JANČA, Jan; Karel NAVRÁTIL a Zdeněk BOCHNÍČEK

Základní údaje

Originální název

Depozice a charakterizace tenkých vrstev připravených ze směsi TEOS+O2 ve vf plazmatu

Název anglicky

RF plasma deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS + O2 gas mixture

Autoři

Vydání

Praha, 17th Symp. on Plasma Physics and Technology, s. 275-277, 1995

Nakladatel

ČVUT

Další údaje

Typ výsledku

Kapitola resp. kapitoly v odborné knize

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/95:00000353

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

80-010-1344-8
Změněno: 25. 2. 1999 01:10, prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.

Návaznosti

MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek