ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Vilma BURŠÍKOVÁ a Jan JANČA. Properties of Silicon Containing Thin Films Deposited by PECVD. In International Workshop on Diagnostics of Solid State Surfaces and Interfaces. 1. vyd. Bratislava, Slovakia: UK Bratislava, Slovakia, 1998, s. 28-29.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Properties of Silicon Containing Thin Films Deposited by PECVD
Autoři ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika).
Vydání 1. vyd. Bratislava, Slovakia, International Workshop on Diagnostics of Solid State Surfaces and Interfaces, s. 28-29, 1998.
Nakladatel UK Bratislava, Slovakia
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky plasma enhanced CVD
Štítky plasma enhanced CVD
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 17. 7. 2007 17:20.
Anotace
Properties of Silicon Containing Thin Films Deposited by PECVD
VytisknoutZobrazeno: 22. 7. 2024 23:17