1999
The influence of substrate emissivity on plasma enhanced CVD of diamond-like carbon films
ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Vilma BURŠÍKOVÁ a Daniel FRANTAZákladní údaje
Originální název
The influence of substrate emissivity on plasma enhanced CVD of diamond-like carbon films
Autoři
ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a Daniel FRANTA (203 Česká republika)
Vydání
Czechoslovak Journal of Physics, Praha, 1999, 0011-4626
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 0.328
Kód RIV
RIV/00216224:14310/99:00001115
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000082265000008
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 7. 2007 17:27, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
Anotace
V originále
In a planar capacitively coupled RF reactor we deposited DLC films from the mixture of methane and argon. The self biased electrode was in a poor thermal contact with walls of the reactor, neither water cooled nor electrical heated by a special external circuit. The temperatures were continuously increasing even during the longest deposition time of 120 min and differed for the electrode and the silicons of different specific resistances correlated to their emissivities. Ellipsometric and reflectance measurements of films deposited on two different silicon substrates of different emissivities were carried out. Their deposition rate depended significantly on the silicon emissivities because of the different temperatures. The influence of the silicon substrate emissivity on the mechanical properties of DLC films were studied by means of Vickers microhardness tester.
Návaznosti
| GV106/96/K245, projekt VaV |
| ||
| MSM 143100003, záměr |
|