1999
Relationship Between AFM and Optical Measurements at Analyzing Surface Roughness
OHLÍDAL, Ivan, Daniel FRANTA, Petr KLAPETEK a Martin VIČARZákladní údaje
Originální název
Relationship Between AFM and Optical Measurements at Analyzing Surface Roughness
Autoři
OHLÍDAL, Ivan (203 Česká republika, garant), Daniel FRANTA (203 Česká republika), Petr KLAPETEK (203 Česká republika) a Martin VIČAR (203 Česká republika)
Vydání
Jemná mechanika a optika, Přerov, Physical Institute, ASCR, 1999, 0447-6441
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10306 Optics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Kód RIV
RIV/00216224:14310/99:00002111
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Změněno: 22. 12. 2003 00:17, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
Anotace
V originále
In this paper a comparison of the values of the basic surface roughness parameters determined by atomic force microscopy and a combined optical method is performed for a chosen sample of SiO2-film with identically randomly rough boundaries placed onto a silicon single crystal wafer. The combined optical method is based on simultaneous interpretation of the experimental data corresponding to variable angle spectroscopic ellipsometry and near-normal spectroscopic reflectometry. It is shown that the comparison of the results achieved using both the methods mentioned can be successfully performed if the influence influence of individual spatial frequencies of the harmonic components of random surface roughness on the optical quantities measured is based into account.
Návaznosti
GA202/98/0988, projekt VaV |
| ||
GV106/96/K245, projekt VaV |
| ||
VS96084, projekt VaV |
|