J 1999

HF plasma pencil- new source for plasma surface processing

JANČA, Jan, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Miloš KLÍMA a Pavel SLAVÍČEK

Základní údaje

Originální název

HF plasma pencil- new source for plasma surface processing

Autoři

JANČA, Jan (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Miloš KLÍMA (203 Česká republika) a Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika)

Vydání

Surface and coating technology, New York, ELSEVIER, 1999, 0257-8972

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.008

Kód RIV

RIV/00216224:14310/99:00001481

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

plasma pencil; atmospheric discharge; diagnostic

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 20. 12. 2008 16:13, Mgr. Miloš Klíma, Ph.D.

Anotace

V originále

HF plasma pencil=new source for plasma surface treatment.

Návaznosti

GV106/96/K245, projekt VaV
Název: Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
Investor: Grantová agentura ČR, Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VS96084, projekt VaV
Název: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze