KOVAČ, Janez, Jernej EKAR, Miha ČEKADA, Lenka ZAJÍČKOVÁ, David NEČAS, Lucie BLAHOVÁ, Jiang Yong WANG a Miran MOZETIC. Depth profiling of thin plasma-polymerized amine films using GDOES in an Ar-O-2 plasma. Applied Surface Science. Elsevier, 2022, roč. 581, April, s. 1-10. ISSN 0169-4332. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.152292.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Depth profiling of thin plasma-polymerized amine films using GDOES in an Ar-O-2 plasma
Autoři KOVAČ, Janez (garant), Jernej EKAR, Miha ČEKADA, Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, domácí), David NEČAS, Lucie BLAHOVÁ, Jiang Yong WANG a Miran MOZETIC.
Vydání Applied Surface Science, Elsevier, 2022, 0169-4332.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Nizozemské království
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 6.700
Kód RIV RIV/00216224:14310/22:00127772
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.152292
UT WoS 000799074500006
Klíčová slova anglicky GDOES; Depth profile; Amine plasma polymer; Ar-O-2 plasma
Štítky rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 15. 2. 2023 18:07.
Anotace
Thin polymer films were deposited on polished stainless-steel samples by PECVD from a cyclopropylamine precursor and characterized by X-ray photoelectron spectroscopy, secondary-ion mass spectrometry and glow-discharge optical emission spectroscopy (GDOES) depth profiling. These depth profiles exhibited reasonable agreement. The GDOES involved the erosion of the polymer films in plasma sustained by an asymmetric RF capacitively coupled discharge using both Ar and Ar-O2 gases. The application of pure Ar caused unwanted effects, such as the broadening of the polymer-film/substrate interface, which were suppressed when using the mixture with oxygen. Another benefit of oxygen was a significant increase in the etching rate by a factor of about 15 as compared to pure argon. The mechanisms involved in the depth profiling using the mixture of gases were elaborated in some detail, taking into account plasma parameters typical for an asymmetric, capacitively coupled RF discharge in a small volume. The main benefit of using the Ar/O2 GDOES profiling with respect to XPS and SIMS depth profiling is the increased sputtering rate for polymer films. Comparing the GDOES depth profiling with the Ar/O2 mixture with profiling in pure Ar, the benefits are a higher sputtering rate and better depth resolution at the polymer/substrate interface.
Návaznosti
90110, velká výzkumná infrastrukturaNázev: CzechNanoLab
VytisknoutZobrazeno: 21. 7. 2024 02:15